碳化硅（SiC）作为一种高性能材料，近年来在半导体行业中备受关注。然而，碳化硅的应用远不止于此，它不仅用于制造功率器件，还被广泛应用于多个领域作为磨料、切削工具、结构材料、光学材料以及催化剂载体等。

碳化硅复合陶瓷材料以SiC和Si为主要组分，加入添加剂后成型，然后放置在氮化炉中通入高纯氮气，在一定温度下氮化烧结而成。碳化硅陶瓷制备方法包括反应烧结法、重结晶烧结法，热压烧结法，无压烧结法等。导体设备用碳化硅零部件包括水冷盘、吸盘和晶舟等，具备高精密、高纯度、强耐化学和离子腐蚀能力的特点。碳化硅陶瓷在半导体领域的应用工业窑炉方面，主要应用场景从早先的日用、卫生陶瓷窑炉用结构件等传统工业结构陶瓷发展为新能源、半导体窑炉用结构件等各类中高端工业结构陶瓷。